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妆前乳是什么东西,妆前乳是啥东西 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国(guó)家知识产权(quán)局(jú)局长(zhǎng)申长雨(yǔ)在(zài)新闻发(fā)布(bù)会上表示(shì),将统筹(chóu)推进(jìn)各(gè)类知(zhī)识产(chǎn)权(quán)法律法规(guī)和制(zhì)度规则的制修订(dìng)工(gōng)作。其(qí)中,修(xiū)改完(wán)善集成电路布图(tú)设计保护条例,适(shì)应(yīng)大(dà)规模集成电路发(fā)展(zhǎn)需要,助力芯片产业做大做强,服务数字经济(jì)更好发展。

  加强大(dà)数据、人工(gōng)智能、基因(yīn)技(jì)术(shù)等(děng)新领(lǐng)域新业态知(zhī)识产(chǎn)权规则研究,助力相关领域(yù)创(chuàng)新发展。同时,积极(jí)参(cān)与知识产(chǎn)权国际规则制定,更好对(duì)接(jiē)高标(biā妆前乳是什么东西,妆前乳是啥东西o)准国际(jì)经贸(mào)规则,助力高水平对外开(kāi)放。

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